
半导体温控设备基于热电制冷(TEC)技术,利用碲化铋半导体材料的帕尔贴效应,通过PID闭环控制算法和温度传感器(如RTD、热敏电阻),实现±0.01°C的温控,响应时间小于1秒,工作范围覆盖-50°C至+150°C。该设备采用无机械振动设计,集成液冷/风冷散热系统,具备多区立控温和模块化扩展能力,广泛应用于光通信激光器稳频、半导体晶圆测试、医疗PCR仪快速温变、新能源电池性能验证等X域,以高性(MTBF >5万小时)、低功耗和智能兼容性(支持LabVIEW/以太网)为X势,满足工业、科研及医疗场景对温度敏感设备的稳定性需求。
【核心产品参数】
? 温控设备
温度范围:
- 低温型:-50℃ ~ +120℃
- 宽域型:-20℃ ~ +200℃
- 高温型:常温 ~ +300℃
控温精度:±0.1℃ / ±0.01℃(可选)
【技术X势对比】
相比传统压缩机/液氮/加热丝方案,半导体TEC技术具有:
? 精度提升300%:±0.01℃精密控制
? 响应速度提升50%:毫秒X温度调节
? 体积减少60%:紧凑型模块化设计
? 综合成本降低40%:免维护命设计
【应用场景】
精密激光系统 | 生物医疗设备 | 芯片测试平台 | 光学仪器 | 材料实验室